真空镀膜加工磁控溅射技术有很多种。每个都有不同的工作原理和应用对象。但有一个共同点：磁场和电子之间的相互作用使电子在靠近目标表面的掩埋螺旋中运行，从而增加电子撞击产生离子的概率。产生的离子在电场的作用下与靶表面发生碰撞，并从靶表面飞溅出去。
在近几十年的发展中，永磁体逐渐被使用，而线圈磁体很少被使用。
目标源可分为平衡源和非平衡源。平衡靶源的涂层均匀，且非平衡靶源的涂层与基材的附着力强。平衡靶源主要用于半导体光学薄膜，非平衡靶源主要用于装饰膜的佩戴。
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。
光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。
高频感应蒸发源蒸镀法：
高频感应蒸发源是将装有蒸发材料的石墨或陶瓷坩锅放在水冷的高频螺旋线圈中央，使蒸发材料在高频带内磁场的感应下产生强大的涡流损失和磁滞损失（对铁磁体)，使蒸发材料升温，直至气化蒸发。
优点：
1、蒸发速率大，可比电阻蒸发源大10倍左右。
2、蒸发源的温度均匀稳定不易产生飞溅现象。
3、蒸发材料是金属时，蒸发材料可产生热量。
4、蒸发源一次装料，无需送料机构，温度容易控制，操作简单。
PVD镀膜主要分为真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜。PVD镀膜和传统化学电镀的区别：
相同点：两种都是属于表面处理，通过一定的方法使材料覆盖在另一种材料的表面上。
不同点：PVD镀膜的结合力更大，硬度更高，抗腐蚀性和耐磨性也更好，另外不会产生有毒的物质。
PVD镀膜技术主要应用的行业有哪些？
装饰方面：主要为了外观的光泽度和耐磨抗腐性。如卫浴五金、门锁、门窗五金等。
工具方面：主要是提高工具表面硬度，降低摩擦系数，延长使用寿命。如铣刀、钻头、车刀、螺丝刀、钳子等。
