东莞市清溪利成感光五金厂本厂主要做曝光显影工艺,平面、圆弧面、凹凸面、喷砂1氧2氧阳极、五金丝印.五金腐蚀等产品加工,有多年经验,有需要以上的工艺欢迎您的到来参观和洽谈,可免费打。
显影的主要过程如下:对准曝光一曝光后烘一显影一坚膜一显影检测。
对准曝光
对准曝光阶段是光刻工艺的重要阶段,使用的掩膜曝光机,即光刻机,集中了光刻工艺中重要的工艺技术。
对准曝光过程通常在黄光实验室中进行。
使用的光刻机根据不同的曝光原理,分为接触式曝光,接近式曝光和投影式曝光。也可按自动化程度高低
手动
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坚膜( HB Hardbake)
坚膜也称为硬烘,是对显影后的光刻胶加热烘干,促使光刻胶与硅片粘着牢固,并且没有发生形变。坚膜阶段的温度一般控制在100-120℃之间,若加热温度过高会使得光刻胶软化,如图4所示,并导致后期去胶困难。
一般使用热板或烘箱来控制温度变化。
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显影设备和图像形成装置的制造方法
在混合显影系统中,难以长期通过稳定的调色剂层来涂敷显影 辊。在混合显影系统中,以具有预定电荷量(Q/S)的调色剂来涂敷显影辊,以使得上述传送 偏置所生成的电势差AV得以填充在传送辊与显影辊之间。目前通常采用曝光后立刻烘干方式,即PEB,减少驻波效应带来的影响。在此情况下,存在这样的关系: AV和待涂敷的每单位面积的调色剂的电荷量Q/S彼此成比例。此外,Q/S是与每单位面积 的涂层有关的调色剂的质量(Μ/S)和调色剂的每单位质量的电荷量(Q/M)的乘积。