真空电镀使用的镀层材质广泛、容易符合环保要求，简单一点，就是在真空状态下将需要涂覆在产品表面的膜层材料通过等离子体离化后沉积在工件表面的表面处理技术，真空电镀有真空蒸发镀，溅射镀，离子镀等，获得这些沉积方法的途径有多种：电加热、离子束、电子束、直流溅射、磁控溅射、中频溅射、射频建设、脉冲溅射、微波增强等离子体、多弧等等很多种方法，真空电镀可以根据的需求和经济技术条件考虑选用的涂层设备。
真空电镀可分为一般真空电镀、UV真空电镀、真空电镀特殊，工艺有蒸镀、溅镀等。真空离子镀，又称真空镀膜，真空电镀的做法现在是一种比较流行的做法，做出来的产品金属感强，亮度高，而相对其他的镀膜法来说，成本较低，对环境的污染小，现在为各行业广泛采用。
真空电镀主要包含：真空蒸镀、磁控溅射镀和离子镀几类种类。他们全是选用在真空情况下，根据水蒸气蒸馏或磁控溅射等形式在塑料件表面堆积各种金属和非金属薄膜。
减反射涂层普遍用于拍摄和各种激光，而且是新建筑的大窗子所必须的。防反射涂层普遍用于数码相机和电视摄像机的画面。
真空电镀镀膜在电子设备中具有主要影响力。各种尺寸的承继电路。包含存储器、运算器、标示逻辑性元器件等，务必应用导电膜、绝缘层膜和防护膜。铬膜作为制造电路的掩膜。
镀低折射率膜层，将镀完金属膜层的产品传入装有可形成低折射率膜层的靶材镀膜腔室，加热达到80-150℃的工艺温度，向腔室通入工艺气体，设置溅射功率1-15KW，镀膜时间1-300S，得到厚度为1-100nm的低折射率膜层，此低折射率膜层为氧化硅、氮化硅等膜层；
镀高折射率膜层，将镀完低折射率膜层的产品传入装有可形成高折射率膜层的靶材镀膜腔室，加热达到80-150℃的工艺温度，向腔室通入工艺气体，设置溅射功率1-15KW，镀膜时间1-300S，得到厚度为1-100nm的高折射率膜层，所述高折射率膜层为氧化钛、氮化钛、氧化锆、氮化锆、氧化铌、氮化铌、氧化锌、氧化铟、氧化铝、氧化铁、氧化铬、氮化铬等膜层，此高低折射膜层的工艺气体为Ar、N2、O2中的至少一种，其中Ar气体流量为10-1000sccm，N2气体流量为10-1000sccm，O2气体流量为10-1000sccm；
