6分钟前 录像机壳曝光显影加工生产来电垂询「利成感光」[利成感光38dbdb8]内容：曝光时菲林胶片黑色部分的钢片不被感光，对于空白的蚀刻钢片感光，钢片感光的油墨发生聚合反应，然后通过显影机，蚀刻钢片上的感光油墨不被显影液所融化，为感光的油墨被显影液去除，通过这样的方式，需要蚀刻的图案显影在钢片上面了。曝光：在将光线通过掩膜中的芯片图案照射到光刻胶表面的过程中，使得光刻胶在芯片表面保留下芯片图案的影像。显影：通过将芯片表面的光刻胶所形成的图案暴露在显影液中进行刻蚀，去除光刻胶的非芯片图案区域，使得芯片上仅保留出所需要的器件结构。

显影液去除并且清洗（rinse）：达到显影时间后，使用DIW立即冲洗晶圆表面。去离子水不仅可以使显影过程终止，而且会把显影后缺陷颗粒冲洗掉。在冲洗过程中，晶圆显影工艺是指用显影液去除晶圆上部分光刻胶，形成三维的物理图形

旋转产生的离心力也对去除表面颗粒有很大的帮助。甩干（spin dry）：为了将表面的去离子水甩干，将硅片转到高转速蚀刻加工中曝光显影是蚀刻工序前的一步重要的工序，曝光是将需要蚀刻的图案通过光绘转移到两张一样的菲林胶片上，曝光显影是一种摄影技术，其过程包括两个步骤：曝光和显影。在曝光过程中，光线照射到感光材料上，使材料中的纹理或颜色发生变化。在显影过程中，通过将已曝光的感光材料转移到显影剂中，然后在定影剂中处理，产生可见的图像。